Un equipo de científicos chinos, liderado por un ex-ingenífico de ASML, ha desarrollado una innovadora plataforma de fuente de luz de ultravioleta extremo (UVE) que busca esquivar las más de 2.000 patentes de la empresa neerlandesa. Este avance representa un paso significativo en la carrera de China por la independencia tecnológica en la litografía, un sector crucial para la producción de semiconductores de última generación. Aunque aún se encuentra lejos de la producción a gran escala, sienta las bases para futuros desarrollos en la industria.
La litografía de ultravioleta extremo (UVE) representa el obstáculo más significativo en la industria de los semiconductores. Solo ASML, una compañía neerlandesa, fabrica estas máquinas esenciales para producir circuitos integrados por debajo de los 7 nm. Desde 2019, ASML tiene restringida la venta de sus modelos más avanzados a China debido a la presión de Estados Unidos. Cada equipo tiene un costo que oscila entre 200 y 400 millones de dólares, y hasta la fecha, ningún cliente chino ha logrado adquirir uno.
Un equipo de la Academia China de Ciencias, con sede en el Instituto de Óptica y Mecánica de Precisión de Shanghái, ha logrado construir la primera plataforma china de fuente de luz UVE por láser-plasma. Al frente de este proyecto se encuentra Lin Nan, un ex-científico de ASML y responsable técnico de sus fuentes de luz para metrología, quien regresó a China en 2021 como parte de un programa estatal de atracción de talento. Su equipo ha optado por una metodología que evita deliberadamente el método de ASML, así como más de 2.000 de sus patentes. Qiu Yanfang, una columnista china especializada en semiconductores, ha afirmado sin ambigüedad que este rodeo de patentes no es simplemente una maniobra legal; es ingeniería genuina. Esta valoración, publicada hace apenas dos semanas, ha vuelto a centrar la atención en el progreso real de China en su búsqueda de independencia tecnológica en el campo de la litografía.
La innovación técnica consiste en lo siguiente: mientras ASML genera luz UVE disparando potentes láseres de dióxido de carbono contra gotas de estaño en movimiento (un método conocido como LPP), el equipo de Lin Nan utiliza un láser de estado sólido de 1 micra que impacta un blanco de estaño sólido. En un artículo publicado en diciembre de 2024, Lin y su equipo ya argumentaban que este tipo de láseres podría reemplazar a los de dióxido de carbono como fuente de próxima generación, gracias a su tamaño compacto y su mayor eficiencia de conversión.
No obstante, la propia Qiu Yanfang modera su entusiasmo inicial. A corto plazo, sostiene, esta fuente de estado sólido no podrá alterar el dominio de ASML, dado que toda la industria global de los semiconductores ha construido sus cadenas de suministro, sus patentes y su experiencia de ingeniería alrededor del láser de dióxido de carbono. Aunque la tecnología china obtenga resultados en el laboratorio, aún le resta un largo camino para alcanzar la producción a gran escala. El verdadero valor del logro de Lin, en cualquier caso, radica en sentar las bases y consolidar un equipo de investigación que abarque desde la teoría hasta la ingeniería aplicada.
Este esfuerzo coexiste, además, con otra vía paralela y mucho más discreta. Según reveló Reuters en diciembre de 2025, China ha ensamblado un prototipo de máquina UVE operativa dentro de un laboratorio de alta seguridad en Shenzhen, aunque todavía no produce circuitos integrados funcionales. Huawei coordina esta iniciativa, que involucra a miles de ingenieros: el Instituto de Tecnología de Harbin se encarga de la fuente de luz, el Instituto de Óptica de Changchún de los sistemas ópticos, y SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment) de la integración final, con SiCarrier (la empresa china respaldada por el Gobierno de Shenzhen y vinculada a Huawei) como otro de los actores clave. El Gobierno chino aspira a producir chips con esta tecnología en 2028, aunque la mayoría de los analistas considera 2030 una fecha más realista.
Por el momento, ningún prototipo chino ha demostrado ser capaz de fabricar circuitos integrados comerciales con litografía UVE propia, y las dudas sobre la velocidad real de este avance han vuelto a la primera línea informativa por un motivo muy diferente. El secretario de Comercio de Estados Unidos, Howard Lutnick, ha planteado a directivos sénior de ASML la posibilidad de que uno de sus equipos UVE haya llegado a China por canales clandestinos, algo que la compañía neerlandesa ha negado rotundamente: ninguna de sus 314 máquinas UVE operativas en el mundo, ni ninguna de las 26 ya retiradas, se encuentra en territorio chino.
China aún no posee su propia máquina UVE. Sin embargo, gracias a Lin Nan, ya cuenta con algo que hasta hace poco tampoco tenía: un camino propio para intentar construirla.
